我國的試劑規(guī)格基本上按純度（雜質含量的多少）劃分，共有高純、光譜純、基準、分光純、優(yōu)級純、分析純和化學純等7種。
國家和主管部門頒布質量指標的主要是優(yōu)級純、分級純、化學純、實驗試劑四種。
目前，除對少數(shù)產(chǎn)品制定國家標準外(如高純硼酸、高純的冰乙酸、高純氫氟酸等)，大部分高純試劑的質量標準還很不統(tǒng)一，在名稱上有高純、特純ExtraPure)、超純、光譜純等不同叫法。基準試劑（PT：PrimaryReagent）：專門作為基準物用，可直接配制標準溶液。光譜純試劑（SP：Spectrumpure）：表示光譜純凈。但由于有機物在光譜上顯示不出，所以有時主成分達不到99.9%以上，使用時必須注意，特別是作基準物時，必須進行標定。純度遠高于優(yōu)級純的試劑叫做高純試劑（≥99.99%）。各國生產(chǎn)化學試劑的大公司均有自己的試劑標準，我國也有我國的化學試劑標準。近年來，我國化學劑標準委員會正在逐步修正我國的試劑標準，盡可能與國際接軌，統(tǒng)一標準。根據(jù)高純試劑工業(yè)專用范圍的不同，可將其分為以下幾種：(1) 光學與電子學專用高純化學品，即電子級試劑(EIectronicgrade)。(2) 金屬-氧化物-半導體(Metal-Oxide-Semiconductor)電子工業(yè)專用高純化學品，即UP-S級或MOS試劑(讀作：摩斯試劑)。一般用于半導體，電子管等方面，其雜質最高含量為0.01~10ppm，有的可降低到ppb數(shù)量級，金屬雜質含量小于1ppb，塵埃等級達到0~2ppb，適合0.35~0.8微米集成電路加工工藝。此外，還有儀分試劑、特純試劑(雜質含量低于1/1000000~1/1000000000級)、特殊高純度的有機材料等。(5) 等離子體質譜純級試劑(ICP-Mass Pure Grade)：絕大多數(shù)雜質元素含量低于0.1ppb，適合等離子體質譜儀(ICPMass)日常分析工作。(6) 等離子體發(fā)射光譜純級試劑(ICP Pure Grade)：絕大多數(shù)雜質元素含量低于1ppb，適合等離子體發(fā)射光譜儀(ICP)日常分析工作。(7) 原子吸收光譜純級試劑(AA Pure Grade)：絕大多數(shù)雜質元素含量低于10ppb，適合原子吸收光譜儀(AA)日常分析工作。我國的關于化學試劑標準分國家標準、部頒標準和企業(yè)標準三種。國家標準由化學工業(yè)部提出，國家標準局審批和發(fā)布，其代號是“GB”，系取自“國標”兩字的漢語拼音的第一個字母。其編號采用順序號加年代號，中間用一橫線分開，都用阿拉伯數(shù)字。如GB 2299-1980高純硼酸，表示國家標準2299號，1980年頒布。
《中華人民共和國國家標準·化學試劑》制訂、出版于1965年，1971年編成《國家標準·化學試劑匯編》出版，1978年凈增訂分冊陸續(xù)出版。1990年又以《化學工業(yè)標準匯編·化學試劑》（第13冊）問世。它將化學試劑的純度分為5級，即高純、基準、優(yōu)級純、分析純和化學純，其中優(yōu)級純相當于默克標準的保證試劑（BR）。《中華人民共和國國際標準·化學試劑》是我國最權威的一部試劑標準。它的內容除試劑名稱、形狀、分子式、分子量外，有：技術條件（試劑最低含量和雜質最高含量等）、檢驗規(guī)則（試劑的采樣和驗收規(guī)則）、試驗方法、包裝及標志等4項內容。部頒標準由化學工業(yè)部組織制定、審批和發(fā)布，報送國家標準局備案，其代號是“HG”，系取自“化工”兩字的漢語拼音的第一個字母，編號形式與國家標準相同。
除部頒標準外，還有部頒暫行標準，是化工部發(fā)布暫行的標準，代號是“HGB”，取自“化工部”三個漢字拼音的第一個字母，編號形式與國家標準相同。企業(yè)標準由省化工廳（局）或省、市級標準局審批、發(fā)布，在化學劑行業(yè)或一個地區(qū)內執(zhí)行。企業(yè)標準的代號采用分數(shù)形式“Q/HG”，Q、HG各系取自“企”“化工”字漢語拼音和第一個字母，編號形式與國家標準相同。
在這3種標準中，部頒標準不得與國家標準相抵觸；企業(yè)標準不得與國家標準和部頒標準相抵觸。
另外，國外試劑廠生產(chǎn)的化學試劑的規(guī)格趨向于按用途劃分，常見的如下：
USP：藥用級
集思代理的試劑品牌包括默克、sigma、賽默飛、國藥、麥克林、阿拉丁等。
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